Ultrakurzpuls Laser System I: Spectra Physics Spitfire

• Spectra Physics Spitfire (Ti-Sa-Verstärker):
  Wellenlänge 800 nm, mittlere Leistung 5 W, Pulsenergie 1 mJ, Pulsdauer 110 fs, Repetitionsrate 5 kHz
• Seedlaser: Spectra Physics Mai Tai (frequenzverdoppelter Nd:YVO4-Laser):
  Wellenlänge 800 nm, mittlere Leistung 500 mW, Pulsdauer 110 fs, Repetitionsdauer 80 MHz
• Pumplaser Spectra Physics Empower 30 (frequenzverdoppelter Nd:YLF-Laser)
  Wennlänge 532 nm,mittlere Leistung 25 W, Pulsdauer 100 ns, Repetitionrate 5 kHz

Ultrakurzpuls Laser System II: Spectra Physics Tsunami

• Spectra Physics Tsunami (Ti-Sa-Verstärker):
  Wellenlänge 700 - 850 nm, mittlere Leistung 1 W @740 nm, Pulsenergie, Pulsdauer < 80 fs
• Pumplaser Spectra Physics Millenia
  Wellenlänge 532 nm, Leistung 10 W

Ultrakurzpuls Laser I: Light Conversion Carbide CB3-40W

• Wellenlänge 1030 nm, 515 nm oder 343 nm, mittlere Leistung 41,5 W @1030 nm, 22,6 W @515 nm, 11,3 W @343 nm, max. Pulsenergie 410 µJ @1030 nm, 113 µJ @515 nm, 225 µJ @343 nm, Pulsdauer 193 fs - 10 ps, Einzelpuls bis 2 MHz (Normalbetrieb), 2,5 GHz Intra-Burst, 63 MHz Inter-Burst (Burst-Betrieb)

Ultrakurzpuls Laser II: Jenoptik JenLas D2fs

• Wellenlänge 1025 nm, Pulsenergien 40 µJ @100 kHz Repetitionsrate, 20 µJ @200kHz Repetitionsrate, Pulslänge < 400 fs

Ti:Sapphire Laser: M Squared SolsTiS

• Wellenlänge einstellbar von 640 - 1100 nm, Leistung 2,4 W, Linienbreite <100 kHz

DPSS Laser: Ekspla NT 230

• Wellenlänge einstellbar von 200 bis 2600 nm, Pulsenergie < 15 mJ, Pulslängen 2 - 5 nm, Repetitionsrate 10 Hz

Faserlaser: SPI Lasers redPower Cube

• Wellenlänge 1075 +/-7 nm, Leistung 1,5 kW

Fasergekoppelter Nd:YAG Laser: Lasag SLS 200 CL16

• Wellenlänge 1064 nm, mittlere Leistung 50 W, Pulsenergie 40 J, Pulsdauer 0,1 - 100 ms, Repetitionsrate 0,1 - 500 Hz

Faserlaser - Modul: SWS Laser FLR-50-SC-OEM

• Wellenlänge 1064 nm, mittlere Leistung 50 W, verschiedene Pulslängen einstellbar, Repetitionsraten 20 - 1000 kHz
• Mit Galvo-Scanner als Beschriftungssystem
• Eingebaut in einem Gehäuse, mit Absaugung

Additive Fertigung I: DMG Mori SLM 125

• Pulverbettanlage mit einem Bauraum von 125x125x200mm³
• Faserleser (IPG) zentrale Emissionswellenlänge 1070 nm ± 5 nm mit 400W
• Fokusgrößenkontrolle mit kleinstem Durchmesser von 35µm
• Winkel-rotierender Doppelkassentenbeschichter für die Pulveraufbringung
• Automatische Pulverzuführung mit einem Tankinhalt von 10L Volumen
• Integrierter Sauger mit Pulverreinigung
   

Additive Fertigung II: Trumpf Lasma-443

• Drei-Achs-CNC Bearbeitungsstation für die Additive Fertigung (DED-LB) und Lasermaterialbearbeitung
• Faserlaser (redPOWER® QUBE, SPI Lasers, Vereinigtes Königreich) zentrale Emissionswellenlänge 1075 nm ± 7 nm
• Integrierte Temperaturreglung: Metis H318 (120 °C – 520 °C); Metis H322 (700 °C – 2300 °C) (Sensortherm GmbH, Deutschland)
• Pulverförderereinheit: PF 2/1 LC (GTV Verschleißschutz GmbH, Deutschland) 5l Behältervolumen
   

Additive Fertigung III: Orlaser ORLAS Cube

• Drei-Achs-CNC Bearbeitungsstation für die Additive Fertigung (DED-LB) und Lasermaterialbearbeitung
• Faserlaser (IPG) zentrale Emissionswellenlänge 1070 nm ± 5 nm mit 450W (CW)/4500W (gepulst)
• Integrierte Temperaturreglung: Quotienten-Pyrometer Metis H322 (700 °C – 2300 °C) (Sensortherm GmbH, Deutschland) und Infrarotkamera PI 05 (900 – 2000°C) (Optris GmbH)
• Pulverförderereinheit: PF 2/1 LC (GTV Verschleißschutz GmbH, Deutschland) 5l Behältervolumen mit integrierter dynamischer Regelung des Materialflusses
   

Additive Fertigung IV: Lunovu robotergestützes Draht Auftragschweißen

• Zwei ABB 6 Achsroboter auf einer Linearachse und einem Dreh-Kipp-Positionierer:
• Roboter I mit Frässpindel
• Roboter II mit Precitec Coaxprinter für Drahtstärken von 1 bis 1,6 mm
• Laser: IPG 6000 YLS: 6 kW Faserlaser
• Drahtförderer Dinse DIX FDE 150
• Aktiv geschütze Laserschutzzelle mit Absaugung

Die Anlage ist im Forschungsbau ZESS aufgebaut. Weitere Informationen dazu.

Rasterelektronen Mikroskop: Zeiss EVO MA10

• Filament LaB6 Cathode
• 3 nm Auflösung bei 30 kV
• Variabler Druckbereich 10 - 400 Pa
• Sekundärelektronen Detektor
• Rückstreuelektronen Detektor
• EDX Detektor
• Bis 30 kV Beschleunigungsspannung

Weißlicht Interferometer Mikroskop: Polytec TMS-1200

• Vertikaler Messbereich 250 µm
• Vertikale Auflösung 0,035 nm
• maximale Messfeldgröße ca. 4 mm (abhängig vom verwendeten Objektiv)

Raman Mikroskop: Renishaw inVia

• Drei Anregungswellenlängen: 532 nm, 633 nm, 785 nm
• Auswertungs Wellenlängenbereich: 200 nm - 2200 nm
• Sepktrale Auflösung: 0,3 cm^-1
• Laterale Auflösung: 0,25 µm

Laser Scanning Mikroskop: Olympus LEXT OLS 5000

• Konfokales Laser Scanning Mikroskop
• Vergrößerung 54x bis 17.280x
• Auflösung z Richtung: 0,5 nm
• Auflösung x, y Richtung: 1 nm

Messmikroskop: Nikon Eclipse LV 1000

• Mikroskop mit episkopischer und diaskopischer Beleuchtung
• Digitalkamera  Nikon Sight DS-Fi2
• NIS Element Software

Sonnensimulator: Wavelabs Sinus-70

• Lichtquelle mit 21 LEDs
• Spektraler Bereich von 350 nm bis 1280 nm
• Intensität von 0,1 bis 1,1 Sonnen
• Einstellung diverser Spektren möglich

UV-VIS-NIR Spektrometer: Shimadzu UV-3600Plus

• Wellenlängenbereich: 185 m- 3.300 nm
• Auflösung: 0,1 nm
• Intergrating Sphere
• Detector: Photomultiplier tube / InGaAs Photodiode / PbS photoconductive element

Ellipsometer: Accurion nanofilm_ep4

• Bildgebendes Ellipsometer zur Bestimmung von Schichtdicken und Brechungsindex dünner Schichten
• Messbereich: 0,1 nm bis 10 µm
• Laterale Auflösung: 1 µm

Glovebox: GS Glovebox Systemtechnik GPT2

• Inerte Atmosphäre durch Argon Spülung
• Zwei Schleusen
• Eingebauter Spin Coater

Partikelanalysegerät: Microtrac NANO-flex

• Größenbestimmung von Partikeln mittels Dynamischer Lichtstreuung
• Messbereich 0,8 nm bis 6,5 µm Partikelgröße
• Messung ohne vorheriges Wissen über die Größenverteilung